中國科學家自主研制成功新型光刻機 取得專利20余項
2016年03月25日 9:10 8722次瀏覽 來源: 中國有色網(wǎng) 分類: 科技創(chuàng)新
近日,從中科院光電技術(shù)研究所獲悉,該所微電子專用設(shè)備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。
據(jù)中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹,該所自主研發(fā)的新型光刻機,將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術(shù),與具有低成本、高效率特點的紫外光刻技術(shù)有機結(jié)合。
據(jù)了解,這套設(shè)備采用新型納米對準技術(shù),將原光刻設(shè)備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。對準是光刻設(shè)備三大核心指標之一,是實現(xiàn)功能化器件加工的關(guān)鍵。該所在國家自然基金的連續(xù)資助下,完成基于莫爾條紋的高精度對準技術(shù)自主研發(fā),取得專利20余項。
“該技術(shù)在光刻機中的成功應(yīng)用突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問題,為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障。”胡松說。
據(jù)悉,該設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備,具有廣闊的應(yīng)用前景,目前已完成初試和小批生產(chǎn),并已在高校與企業(yè)用戶中推廣。
責任編輯:李幼玲
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